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產(chǎn)品名稱：基材，帶臺階表面和Ti端接（100）10x10x0.5mm，1 SP
產(chǎn)品型號：SrTiO3
產(chǎn)品展商：MTI
產(chǎn)品文檔：無相關(guān)文檔

簡單介紹

步驟STO襯底是原子光滑的SrTiO 3（100），其具有臺階，其通過用pH控制的NH 4 F-HF溶液處理晶體表面而獲得一個單位晶格的高度。通過反射高能電子衍射和原子力顯微鏡證實，SrTiO 3膜在晶體表面的均質(zhì)性以理想的逐層模式進行。離子散射光譜表明，TiO 2原子平面終止了經(jīng)處理的清潔表面，并且終止原子層可以通過同質(zhì)外延生長被調(diào)諧到SrO原子平面。該技術(shù)為這種鈣鈦礦氧化物膜的原子調(diào)控的外延生長提供了良好定義的基底表面。

產(chǎn)品描述

步驟STO襯底是原子光滑的SrTiO ₃（100），其具有臺階，其通過用pH控制的NH ₄ F-HF溶液處理晶體表面而獲得一個單位晶格的高度。通過反射高能電子衍射和原子力顯微鏡證實，SrTiO ₃膜在晶體表面的均質(zhì)性以理想的逐層模式進行。離子散射光譜表明，TiO ₂原子平面終止了經(jīng)處理的清潔表面，并且終止原子層可以通過同質(zhì)外延生長被調(diào)諧到SrO原子平面。該技術(shù)為這種鈣鈦礦氧化物膜的原子調(diào)控的外延生長提供了良好定義的基底表面。

有關(guān)Step基板的更多信息，請參閱以下文章：

《科學(xué)》，1994年12月2日： **卷。266 號 5190 頁1540-1542 DOI：10.1126 / science.266.5190.1540

逐步處理（AFM）后的SrTiO3基材表面

步驟處理（AFM）之前SrTiO3基材的表面

步驟STO基板的典型AFM圖片

基板規(guī)格

尺寸： 10 x10 x 0.5mm +/- 0.05mm
方向：從（100）切入0.1o（Y和X方向+/-0.1o）
拋光：通過CMP技術(shù)對一側(cè)EPI進行拋光，從而減少了亞表面晶格的破壞
表面終止：TiO2層（通過特殊蝕刻）
表面光潔度（RMS或Ra）：<5A

	典型物理性質(zhì)
晶體結(jié)構(gòu)	立方，a =3.905?
生長方式	韋努爾
密度	5.175克/厘米³
熔點	2080 ^? ?
硬度	6（莫恩）
熱膨脹	10.4（x10 ^-6 / ^o C）
介電常數(shù)	?300
10 GHz時的損耗角正切	?5x10 ^-4 @ 300K，?3 x10 ^-4 @ 77K
顏色和外觀	透明的（根據(jù)退火條件有時為淺棕色）。沒有雙胞胎。
化學(xué)穩(wěn)定性	不溶于水

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基材，帶臺階表面和Ti端接（100）10x10x0.5mm，1 SP

基材，帶臺階表面和Ti端接（100）10x10x0.5mm，1 SP