• 220 VAC，50 / 60Hz，單相
• 800 W（包括泵）
• 如果電壓為  110 VAC，則需要1000 W的變壓器，請單擊左圖訂購

• 一個13.5兆赫，300瓦的RF  發(fā)生器，提供自動匹配功能內(nèi)置于機殼和連接到2"濺射頭 （點擊圖片向左看詳細規(guī)格）
• 可選：直流濺射電源可用于涂覆金屬材料 
•  射頻電源                直流電源可選

磁控濺射頭

• 一個2"  與水冷卻夾套磁控濺射頭被包括并且經(jīng)由快速夾具插入到石英腔（點擊產(chǎn)品圖。 左1看詳細規(guī)格）
• 法蘭上裝有一個百葉窗（手動操作）
• 需要一臺16升/分鐘的數(shù)控循環(huán)水冷卻器來冷卻磁控濺射頭（如果沒有，請單擊右圖3進行  訂購）
• 1英寸濺射頭是可更換的，并且可選，但要額外付費（請單擊右圖2進行訂購）
• 可以替換148厘米的射頻電纜，但需要支付額外費用（點擊右圖1進行訂購）

               

   

  

濺射靶

• 目標尺寸要求：2英寸直徑x 1/4英寸*大厚度
• 演示測試包括一個銅靶（直徑2英寸x 3毫米t）。
• Al2O3陶瓷靶材   推薦涂覆方法
• 可根據(jù)要求提供可選的2英寸濺射靶（帶背板），但需額外付費。

真空室

• 真空室：外徑160毫米x內(nèi)徑150毫米x高度250毫米。由高純度石英制成
• 密封法蘭：直徑165 mm。鋁制成，帶有高溫硅膠O形圈
• 隨附的不銹鋼網(wǎng)罩可100％屏蔽來自腔室的RF輻射
• 真空度：帶有雙級機械泵的1.0E-2 Torr和帶有可選渦輪泵的1.0E-5 Torr

樣品架

• 樣品架可旋轉(zhuǎn)且可加熱，由帶不銹鋼蓋的陶瓷加熱器制成
• 樣品架尺寸：直徑50 mm。*多2“晶圓
• 旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)：1-10 rpm，以獲得均勻的涂層
• 支架溫度可通過數(shù)字溫度控制器在RT至*大500°C范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，精度為+/- 1.0  ° C。
• 根據(jù)要求可提供800-1000oC加熱樣品架。
• 可選的振動樣品架可用于動力PVD涂層。（下面的圖片3）
•   射頻粉末涂料

• KF25真空端口是內(nèi)置的，用于連接真空泵。
• 需要帶有KF25適配器的真空泵，但不包括在內(nèi)。.  請單擊圖片單獨訂購。
• 真空度：雙級機械泵為   1.0E-2托，渦輪泵為1.0E-5托

               

• 精密石英厚度傳感器是可選的（請單擊下面的Pic1進行訂購），可以將其安裝在腔室內(nèi)，以0.10?的精度監(jiān)控涂層厚度。需要筆記本電腦才能顯示厚度
•              

外形尺寸

凈重

• 70公斤

保修與合規(guī)

• 一年有限保修，提供終身支持
• CE認證
• NRTL認證暫時不可用。

操作指令

應(yīng)用須知

• 這種緊湊的2英寸RF磁控濺射鍍膜機設(shè)計用于在通常不需要高真空設(shè)置的氧化物單晶襯底上涂覆氧化物薄膜
• 請使用> 5N純度的Ar氣體進行等離子濺射
• 為了獲得*佳的薄膜與基材的粘合強度，  請  在涂覆前清潔基材表面  ：
• 用以下連續(xù)浴進行超聲波清洗（單擊Pic＃1進行訂購）-（1）丙酮，（2）異丙醇-除去油和油脂。用氮氣吹干基材，然后在真空中熱烘烤以除去吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化學鍵活化或其他污染物去除可能需要等離子清潔（單擊Pic＃2進行訂購）
• 可以使用諸如Cr，Ti，Mo，Ta之類的薄緩沖層（?5 nm）來提高金屬和合金的附著力
• 為了獲得*佳性能，非導電靶必須安裝有銅襯板。請參閱以下說明視頻（＃3）了解目標綁定
• MTI使用鍍膜機成功地在500°C的 Al ₂ O ₃ 基體上涂覆了ZnO （圖5中的XRD曲線）
• 請勿在冷水機中使用自來水。使用去離子水，蒸餾水或抗腐蝕添加劑作為色漿。

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