VTC-600-2HD-LD是一種緊湊的磁控濺射系統(tǒng),具有兩個(gè)2“目標(biāo)源,例如,一個(gè)DC源用于涂覆金屬膜,另一個(gè)RF源用于涂覆非金屬材料。該涂覆系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于同時(shí)涂覆兩種適用于多種材料的單層或多層膜,例如合金,鐵電材料,半導(dǎo)體,陶瓷,電介質(zhì),光學(xué)材料,PTFE等。 (自2015年9月25日起修訂。不包括薄膜厚度監(jiān)視器。)
磁控濺射頭
真空室
樣品臺(tái)
氣體流量控制
外形尺寸
蓋子關(guān)閉:48“ ×28” ×32“蓋子打開(kāi): 48” ×28“×37”
涂布機(jī)凈重
運(yùn)輸重量和尺寸
合規(guī)
保證
操作指令
應(yīng)用筆記Pic 1 Pic 2