光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。Holmarc的光譜橢圓儀結(jié)合了旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏儀技術(shù)來表征薄膜樣品。它使用高速CCD陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到數(shù)十微米的薄膜，以及從透明到吸收材料的光學特性。它可以精que地測量光學常數(shù)，例如折射率，薄膜厚度和消光系數(shù)。
橢偏法是用于薄膜分析的高度靈敏的技術(shù)。該原理依賴于從表面反射時光的偏振態(tài)的變化。表征*化狀態(tài)，對應(yīng)于電磁波電場的方向；選擇兩個方向作為參考，p方向（平行）和s方向（垂直）。反射光具有在p方向和s方向上不同的相位變化。橢偏法測量這種*化狀態(tài)；
p = rp / rs = tan ΨeiΔ
其中Ψ和Δ是幅值比和相移p和?分別的部件。由于橢圓偏振法測量兩個值的比率，因此它非常準確且可重復(fù)。
測角計：40-90度 厚度測量范圍：0.1 nm-10微米 膜厚分辨率：0.01 nm 測得的RI分辨率：0.001
樣品對準：半自動（光學檢測），手動10mm高度調(diào)節(jié)和傾斜 樣品臺特征：X-Y平移超過10 x 10mm（可選）
可測量的薄膜參數(shù)：折射率，消光系數(shù)，吸收系數(shù)和薄膜厚度
軟件功能 用戶可擴展材料庫 數(shù)據(jù)可以另存為Excel或文本文件 **的數(shù)學擬合算法 提取厚度和光學常數(shù) 參數(shù)化模型 多層厚度測量 采集和分析不同波長和角度下的psi，增量和反射率