光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測(cè)量。Holmarc的光譜橢圓儀結(jié)合了旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏儀技術(shù)來(lái)表征薄膜樣品。它使用高速CCD陣列檢測(cè)來(lái)收集整個(gè)光譜。它可以測(cè)量從納米厚度到數(shù)十微米的薄膜，以及從透明到吸收材料的光學(xué)特性。它可以精que地測(cè)量光學(xué)常數(shù)，例如折射率，薄膜厚度和消光系數(shù)。
橢偏法是用于薄膜分析的高度靈敏的技術(shù)。該原理依賴(lài)于從表面反射時(shí)光的偏振態(tài)的變化。表征*化狀態(tài)，對(duì)應(yīng)于電磁波電場(chǎng)的方向；選擇兩個(gè)方向作為參考，p方向（平行）和s方向（垂直）。反射光具有在p方向和s方向上不同的相位變化。橢偏法測(cè)量這種*化狀態(tài)；
p = rp / rs = tan ΨeiΔ
其中Ψ和Δ是幅值比和相移p和?分別的部件。由于橢圓偏振法測(cè)量?jī)蓚€(gè)值的比率，因此它非常準(zhǔn)確且可重復(fù)。
測(cè)角計(jì)：40-90度 厚度測(cè)量范圍：0.1 nm-10微米 膜厚分辨率：0.01 nm 測(cè)得的RI分辨率：0.001
樣品對(duì)準(zhǔn)：半自動(dòng)（光學(xué)檢測(cè)），手動(dòng)10mm高度調(diào)節(jié)和傾斜 樣品臺(tái)特征：X-Y平移超過(guò)10 x 10mm（可選）
可測(cè)量的薄膜參數(shù)：折射率，消光系數(shù)，吸收系數(shù)和薄膜厚度
軟件功能 用戶(hù)可擴(kuò)展材料庫(kù) 數(shù)據(jù)可以另存為Excel或文本文件 **的數(shù)學(xué)擬合算法 提取厚度和光學(xué)常數(shù) 參數(shù)化模型 多層厚度測(cè)量 采集和分析不同波長(zhǎng)和角度下的psi，增量和反射率