薄膜光譜反射儀是用于工業(yè)和研究中的薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc的TFSR模型號：HO-ED-TH- 04能夠以高速和可重復(fù)性分析薄膜的厚度，復(fù)折射率和表面粗糙度。TFSR理論使用菲涅爾方程的復(fù)雜矩陣形式來實現(xiàn)反射率和透射率。優(yōu)良反射光譜是Reflectometer的原理。這是反射光束的強度（通常是單色的）與入射光束的強度之比。
膜厚范圍：25 nm-1μm 反射波長范圍：400 nm-900 nm 透光率/吸光度范圍：0-100％ 光源：50W鎢鹵素石英燈 探測器：CCD線性陣列，3648像素 光譜儀：Spectra CDS 215 光譜儀波長范圍：VIS-NIR
標(biāo)準(zhǔn)樣品：NSF-66基材上的SiO2薄膜
在NSF-66上通常用于SiO2的精度：±5 nm 相同樣品的精度：±10 nm 光功率：20 W 光斑尺寸：1毫米 樣品上的斑點尺寸：5 mm 材料庫：可擴展的材料用戶庫 PC接口：RS232 / USB 標(biāo)準(zhǔn)樣品：NSF-66基材上的SiO2薄膜 參考樣品：釔和裸鋁增強銀 測量模式：曲線擬合/回歸算法，F(xiàn)FT，F(xiàn)FT +曲線擬合
特征